CMF 是“颜色-材料-工艺”（Color-Material-Finish）的缩写，概括了颜色、材料和表面处理。它代表了这三个元素的有机结合，是工业设计中利用颜色、材料和工艺作为设计元素的一种设计方法。常见的表面处理工艺包括 IMD、OMD、喷涂、PVD、电镀、NCVM、印刷、激光雕刻、蚀刻、PPVD 沉积、电泳、喷砂、滚压等。表面处理的目的是满足耐腐蚀、耐磨损、美观或其他特定功能的要求。
1. 表面处理工艺——IMD
IMD（In-Mold Decoration，模内装饰），又称非喷涂技术，是将预先印刷的薄膜放入金属模具中，将树脂注入模具，并使印刷薄膜与树脂融合成一个整体产品。其表面由硬化透明薄膜、中间的印刷图案层和背部的注塑层构成。这种结构具有耐磨、防刮的特性，并确保颜色鲜艳且长久不褪色。
特点:
IMD 简化了生产步骤并减少了装配组件。使用 IMD 技术制造的产品耐腐蚀、耐磨损、不脱落、颜色鲜艳，且图案可定制，能够提供卓越的表面装饰效果。它被广泛应用于汽车、家用电器、消费电子和医疗电子等领域。IMD 是一种高效且具有成本效益的加工技术。
2. 表面处理工艺——OMD
OMD（Out-Mold Decoration，模外装饰）是 IMD 的延伸。它结合了印刷、纹理和金属化，创造出 3D 表面装饰效果，例如模拟金属拉丝、木纹、皮革和石材纹理。适用于具有较大高度差的 3D 曲面产品。
特点:
OMD 不受基材限制，可应用于金属和塑料。它可以实现 3D 造型，并能在单一加工步骤中集成内部结构，从而适用于较小的产品。然而，其设备成本较高，且无法实现非常复杂的 3D 形状。
3. 表面处理工艺——喷涂
喷涂是使用喷枪或类似工具将涂料雾化并施加到工件表面。涂料通过压力或离心力被分散成微小的液滴，确保在表面均匀覆盖。
4. 表面处理工艺——PVD
PVD（物理气相沉积）是一种真空沉积工艺，利用低电压高电流的弧放电技术，将蒸发的材料和反应气体电离，并通过电场加速离子沉积到工件表面，形成涂层。
5. 表面处理工艺——电镀
电镀可在塑料部件上提供高产量、低成本的金属表面效果。与依赖物理原理的 PVD 不同，电镀是一种化学工艺，包括真空电镀和水电镀。
6. 表面处理工艺——NCVM
NCVM（非导电真空电镀），也称为不连续或非导电镀膜，通过沉积金属和绝缘化合物的薄膜，使产品具有金属外观，同时不会干扰无线通信。
特点:
NCVM 产品具有非导电性，能够承受高压测试，并提供可控透光性的金属外观。
7. 表面处理工艺——印刷
印刷是利用移印、丝网印刷、转印和热转印等方法将图案转印到塑料表面。
- 移印：使用硅胶垫将油墨从雕刻板转移到不规则表面。
- 丝网印刷：使用网版模具，通过开放区域将油墨转移到基材上。
- 水转印：利用水压将转印纸或薄膜上的彩色图案转移到产品表面。
- 热转印：利用高温和压力将特殊转印纸上的数字图案转移到产品上。
- 烫金：利用加热的金属板将金属箔压印到表面，产生装饰效果。
8. 表面处理工艺——激光雕刻
激光雕刻（或激光打标）利用光学原理在表面或透明材料的内部进行永久性标记。它具有成本低、灵活性高、精确度高和永久性的特点。
9. 表面处理工艺——蚀刻
蚀刻利用化学反应或物理磨损去除材料，在金属表面形成具有纹理或浮雕效果的设计。
10. 表面处理工艺——PPVD 沉积
PPVD 沉积涉及真空蒸发，随后通过膜曝光和化学溶液选择性去除不需要的区域，以形成图案。通常用于电池盖。
11. 表面处理工艺——电泳
电泳是在电场作用下，带电颗粒向相反电极移动，常用于涂层应用。
12. 表面精饰工艺——蚀刻
蚀刻：通过化学反应或物理冲击去除材料的技术。通常被称为光化学蚀刻，涉及曝光和显影待蚀刻区域，然后在蚀刻过程中接触化学溶液溶解材料，形成凹陷或空洞形状。
13. 表面精饰工艺——喷砂
喷砂：使用压缩空气将磨料（如铜矿渣、石英砂、金刚砂、铁砂和海砂）高速喷射到工件表面，改变其表面或形状。磨料的冲击和切割作用可改善工件的清洁度、粗糙度和机械性能，从而提高抗疲劳性、涂层附着力、耐久性、平整度和装饰性。
14. 表面精饰工艺——压延
压延：也称为压光，是皮革精加工的最后一道工序，利用纤维在混合加热条件下的塑性，将材料表面压平或形成平行细纹，以增强光泽。材料经过加热、熔融、成型为片材或薄膜后，再冷却和卷曲。最常用于聚氯乙烯（PVC）等材料。
